机译:磁控溅射镁薄膜在25-1300 eV能量范围内的光学常数
机译:根据光吸收数据,磁控溅射碳化硼薄膜的光学常数在30到770 eV之间
机译:蒸发沉积一氧化硅薄膜的光学常数在7.1-800 eV光子能量范围内
机译:蒸发的Pr,Eu和Tm薄膜在4-1600 eV光谱范围内的透射率和光学常数
机译:通过eV范围光子和MeV范围粒子在掺有and和其他芳族分子的聚合物薄膜中进行能量沉积的化学和光物理分析。
机译:Gd22Fe78薄膜在1.5至5.5 eV的光子能量范围内的光学和磁光特性
机译:磁控溅射镁薄膜在25-1300 eV能量范围内的光学常数